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00:00 製程大廠搶著導入 EUV
00:35 微影製程五步驟
01:32 台積電領先製程的光罩潔淨技術
01:57 基於光學成像原理的微影製程
03:02 技術含量需求最高的曝光技術
05:33 搭配 EUV ，晶片才能越做越小
07:09 中芯竟然利用舊技術 DUV製作了7奈米晶片
09:16 技術超前！0.7 奈米晶片面世
// 延伸閱讀 //
噔噔愣噔愣～縮小術！用光學微影把 IC 晶片變小了
https://pansci.asia/archives/353519
半導體的「平面製程」——《掀起晶片革命的天才怪咖：蕭克利與八叛徒》
https://pansci.asia/archives/351843
半導體廠奈米級的奇「積」！科學家挑戰突破電晶體大小的極限
https://pansci.asia/archives/315856
改變在一「矽」之間——半導體的誕生│《電腦簡史》數位時代（十六）
https://pansci.asia/archives/317557
// 參考資料 //
https://research.sinica.edu.tw/optical-lithography-burn-jeng-lin/
https://scitechvista.nat.gov.tw/Article/C000003/detail?ID=ba7d1350-814b-409a-8fde-3e1b20d9cd6d
https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4038717
https://case.ntu.edu.tw/blog/?p=28125
https://iknow.stpi.narl.org.tw/post/Read.aspx?PostID=18731
https://eip.iner.gov.tw/msn.aspx?datatype=YW5hbHlzaXM%3D&id=MjAz
https://technews.tw/2021/02/15/euv-mass-production-of-lithography-technology/
// 製作團隊 //
主持：泛科知識 #鄭國威知識長
企劃：王喆宣
腳本：李斑斑
剪輯：蘇庭緯